[发明专利]狭缝喷嘴和高硅钢带的制造方法在审
| 申请号： | 201980069758.1 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN112888806A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 户部辉彦;土居崇;小关新司 | 申请（专利权）人： | 杰富意钢铁株式会社 |
| 主分类号： | C23C10/08 | 分类号： | C23C10/08 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 盛曼;金龙河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供能够抑制轴向上的被吹出的气体流量的波动的具有双重管结构的狭缝喷嘴。另外，本发明的目的在于提供能够稳定地制造板宽方向上的Si浓度的波动小的高硅钢带的方法。本发明的狭缝喷嘴10具有双重管结构，在从内管30的开放端到开放端侧的喷出口21的端部之间具备将内管30与外管20之间挡住的整流板40，仅在设置有整流板40的面上自穿过外管20的轴中心和喷出口21的宽度方向的中心的基准线L1起的中心角为27.5°以上且332.5°以下的整流板40的区域设置有开口部41。 | ||
| 搜索关键词： | 狭缝 喷嘴 硅钢 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理，例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体，例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体，例如粉末、膏剂的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理，例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体，例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体，例如粉末、膏剂的
