[发明专利]涂覆的基板的等离子灰化在审
| 申请号： | 201980069982.0 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112912251A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | R·阿斯金;S·克兰西;J·珍妮克;B·劳伦斯 | 申请（专利权）人： | HZO股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 任曼怡;黄嵩泉 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于对基板上的涂层进行等离子体蚀刻或灰化的系统包括等离子体室、第二电极、耦合至等离子体室的等离子体源、包括涂层的基板以及包括至少一个孔的等离子体掩模。等离子体室包括第一电极。等离子体掩模被配置成用于覆盖基板，同时通过至少一个孔暴露基板和所述涂层的选定表面。第一电极和第二电极被配置成用于在等离子体室内引发并维持等离子体。等离子体源包括气体。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 灰化 | ||
【主权项】：
暂无信息
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