[发明专利]压电涂层的沉积方法在审
| 申请号： | 201980070798.8 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN112889160A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | B·特拉伊切夫斯基 | 申请（专利权）人： | 瑞士艾发科技 |
| 主分类号： | H01L41/316 | 分类号： | H01L41/316;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/34;C23C14/58;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张慧;林毅斌 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
公开了用以沉积包含具有高度取向的微结构的材料的涂层的方法，该材料至少包括以下顺序的处理步骤：将平坦基板提供到第一真空处理腔室中；通过物理气相蚀刻(PVE)来蚀刻该基板的一个表面；在第一金属沉积步骤中，通过溅射将第一金属层(Me1)沉积在经蚀刻的基板表面上；在比后续的化合物沉积步骤的化合物沉积温度T |
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| 搜索关键词： | 压电 涂层 沉积 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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