[发明专利]测量光刻设备中的图案形成装置的变形的设备和方法在审
| 申请号： | 201980071827.2 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112997117A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | R·C·卡卢里 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 闫昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于使用气动传感器来测量掩模版变形的系统和方法，其中喷嘴沿掩模版的侧面被放置，并且气动传感器生成指示传感器与掩模版的侧面的部分之间的距离的输出信号。来自传感器的掩模版变形测量结果可以被用作掩模版加热控制的输入。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 光刻 设备 中的 图案 形成 装置 变形 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML控股股份有限公司，未经ASML控股股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980071827.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：树脂成形装置及树脂成形品的制造方法
- 下一篇：半导体装置
