[发明专利]呈角度的光栅的形成在审
| 申请号： | 201980073367.7 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN113039627A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;约瑟夫·C·奥尔森;摩根·埃文斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/265 | 分类号： | H01L21/265;H01L21/768;H01L21/3065;H01L21/033;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文论述的系统和方法能够用于在单一基板上遍及光栅材料上形成处于各种倾斜角的光栅，这是通过下述方式实现的：确定离子束角度，以及将离子束的角度在多个离子束角度之间改变，从而形成具有变化的角度和截面几何形状的多个光栅。所述基板能够绕着中心轴旋转，并且能够调控一个或多个工艺参数(诸如离子束的占空比)，从而形成具深度梯度的光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 角度 光栅 形成 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
