[发明专利]与暴露于细胞外的赖氨酰-tRNA合成酶N-末端区域特异性结合的抗体在审
| 申请号： | 201980075543.0 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN113195543A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 金圣勋;权南勋 | 申请（专利权）人： | 生物共同科技有限公司 |
| 主分类号： | C07K16/40 | 分类号： | C07K16/40;G01N33/574;A61P35/00 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;祝艳 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及与暴露于细胞外的赖氨酰‑tRNA合成酶N‑末端区域特异性结合的抗体，更详细地，涉及具有在本说明书中记载的特定互补决定区(CDR)序列，且与暴露于细胞外的赖氨酰‑tRNA合成酶(KRS，Lysyl‑tRNA synthetase)N‑末端区域特异性结合的抗体或其片段，以及包含所述抗体或其片段作为有效成分的组合物的癌症、癌症转移或免疫细胞迁移相关疾病的预防、治疗或诊断的用途。相比于现有的抗体，本发明的方法可有用地用于制备与赖氨酰‑tRNA合成酶N‑末端的亲和力高的抗体。 | ||
| 搜索关键词： | 暴露 细胞 赖氨酰 trna 合成 末端 区域 特异性 结合 抗体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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