[发明专利]功率半导体器件和用于生产这种器件的无荫罩的方法有效

专利信息
申请号: 201980076321.0 申请日: 2019-10-17
公开(公告)号: CN113056812B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: C·帕帕多普洛斯;B·K·波克斯汀;M·安德娜;C·科瓦斯塞;G·昆克尔 申请(专利权)人: 日立能源瑞士股份公司
主分类号: H01L21/329 分类号: H01L21/329;H01L29/861;H01L29/32;H01L29/06
代理公司: 北京市汉坤律师事务所 11602 代理人: 王其文;张涛
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种功率半导体器件包括:具有有源区(AR)和横向围绕有源区的终端区(TR)的晶片(2);终端区中的浮置场环;包括减少载流子寿命的缺陷的寿命控制区;和晶片上的保护层(6)。保护层覆盖终端区,并包括薄部分(61)和横向围绕薄部分的厚部分(62)。厚部分覆盖浮置场环。寿命控制区(5)在横向方向上延伸穿过有源区,并且在终端区中延伸穿过被薄部分覆盖的部分,并且不在被厚部分覆盖的部分中。根据制造方法,使用保护层(6)作为照射掩模,通过利用离子照射晶片(2)来形成寿命控制区。
搜索关键词: 功率 半导体器件 用于 生产 这种 器件 无荫罩 方法
【主权项】:
暂无信息
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