[发明专利]成膜方法、成膜装置、基座单元以及基座单元所使用的间隔件组

摘要

成膜方法包括如下步骤：在基座单元上载置晶片，所述基座单元包括：支承部件，用于载置所述晶片；侧面引导件，设置于所述支承部件上，包围所述晶片的外周的至少一部分；以及间隔件，用于调整所述晶片的上表面与所述侧面引导件的上表面的位置；在所载置的所述晶片的上表面成膜出规定的膜并且在所述侧面引导件上形成膜；基于所成膜出的所述规定的膜的厚度，使用所述间隔件来调整所述侧面引导件的上表面相对于所述晶片的上表面的位置；以及在被调整了所述位置后的所述基座单元上载置新的晶片，成膜出新的规定的膜。