[发明专利]金属膜的高选择性沉积方法在审
| 申请号： | 201980079591.7 | 申请日： | 2019-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN113166930A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | R·坎乔利亚;M·蒙普尔;J·伍德拉夫;S·沃尔夫;M·布里登;S·T·乌达;A·库梅尔;A·阿努拉格 | 申请（专利权）人： | 默克专利股份有限公司;加利福尼亚大学董事会 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C23C16/455 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李跃龙 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明构思涉及选择性金属层沉积。实施方案包括一种用于金属的原子层沉积(ALD)的方法，该方法包括以下至少一个循环：a)将衬底暴露于金属有机前体，所述衬底包含的表面包含金属部分和绝缘体部分；b)在衬底的金属部分的上表面上沉积金属有机前体，以在衬底的金属部分的上表面上选择性地提供金属前体层；c)将金属前体层暴露于共反应物；d)将共反应物沉积在金属前体层上，其中所述共反应物参与与金属前体层的配体交换。 | ||
| 搜索关键词： | 金属膜 选择性 沉积 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
