[发明专利]在电压对比晶片检验中用于溢流充电及图像形成的联合光电柱在审
| 申请号： | 201980079961.7 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN113261072A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 姜辛容;C·西尔斯 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/28 | 分类号： | H01J37/28;H01J37/147;H01J37/22 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种扫描电子显微镜系统，其可包含光电子系统及控制器。所述光电子系统可包含：电子源；及光电柱，其经配置以将电子束引导到样本。所述光电柱可包含：双透镜组合件；束限制孔径，其经安置于所述双透镜组合件的第一与第二透镜之间；及检测器组合件，其经配置以检测从所述样本散射的电子。在实施例中，所述扫描电子显微镜系统的所述控制器可经配置以：致使所述光电子系统形成溢流电子束且运用所述溢流电子束执行所述样本的溢流扫描；致使所述光电子系统形成成像电子束且运用所述成像电子束执行所述样本的成像扫描；在所述成像扫描期间接收由所述检测器组合件获取的图像；及基于所述图像确定所述样本的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 电压 对比 晶片 检验 用于 溢流 充电 图像 形成 联合 光电 | ||
【主权项】：
暂无信息
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