[发明专利]正型干膜抗蚀剂及蚀刻方法在审
申请号: | 201980082011.X | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN113168097A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 入泽宗利;中村优子;梶谷邦人 | 申请(专利权)人: | 三菱制纸株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/023;G03F7/11;H05K3/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王永红 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题在于提供一种在将正型干膜抗蚀剂贴附于基材后,能够容易地将(a)支撑体膜和(b)剥离层从(c)正型感光性抗蚀剂层与(b)剥离层的界面剥离,另外,在将正型干膜抗蚀剂切割或分切时不易发生破裂的正型干膜抗蚀剂及使用了该正型干膜抗蚀剂的蚀刻方法,通过正型干膜抗蚀剂及使用了该正型干膜抗蚀剂的蚀刻方法,解决了上述课题,所述正型干膜抗蚀剂的特征在于,至少依次层叠有(a)支撑体膜、(b)剥离层和(c)正型感光性抗蚀剂层,(b)剥离层包含聚乙烯醇,并且(c)正型感光性抗蚀剂层包含酚醛树脂和醌二叠氮磺酸酯作为主成分。 | ||
搜索关键词: | 正型干膜抗蚀剂 蚀刻 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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