[发明专利]光刻用涂布膜形成用组合物的制造方法在审
| 申请号： | 201980082879.X | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN113226511A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 大桥智也;吉田丰之郎;佐佐卓 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | B01D36/00 | 分类号： | B01D36/00;G03F7/11;G03F7/16;B01D15/00;B01J20/22;B01J20/28 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 马妮楠;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种包含向过滤器滤芯通液的工序的光刻用涂布膜形成用组合物的制造方法，所述过滤器滤芯的特征在于：其为多种过滤用基布层叠了的过滤器滤芯或多种过滤用基布卷绕于中空状内筒的过滤器滤芯，所述过滤用基布是在聚烯烃纤维上化学键合有金属吸附基的无纺布，所述过滤用基布包含无纺布层A和无纺布层B，所述无纺布层A由化学键合有作为金属吸附基的磺酸基的聚烯烃纤维制成，所述无纺布层B由化学键合有作为金属吸附基的选自氨基、N‑甲基‑D‑葡糖胺基、亚氨基二乙酸基、亚氨基二乙醇基、偕胺肟基、磷酸基、羧酸基和乙二胺三乙酸基中的至少一种基团的聚烯烃纤维制成。根据该制造方法，能够降低成为晶片上的微小缺陷的原因的金属杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 用涂布膜 形成 组合 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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