[发明专利]用混合溶剂体系制造层的方法

摘要

本发明涉及一种用于制造晶体A/M/X材料的层的方法，该晶体A/M/X材料包括式[A]a[M]b[X]c的化合物，其中：[M]包括一种或多种第一阳离子，该一种或多种第一阳离子是金属或类金属阳离子；[A]包括一种或多种第二阳离子；[X]包括一种或多种卤素阴离子；a是1至6的整数；b是1至6的整数；c是1至18的整数，其中，所述方法包括将前体组合物设置在基板上，所述前体组合物包括：(a)包括第一阳离子(M)的第一前体化合物，所述第一阳离子是金属或类金属阳离子；和(b)溶剂，其中，所述溶剂包括：(i)非极性有机溶剂，所述非极性有机溶剂是烃溶剂、氯代烃溶剂或醚溶剂；和(ii)包括至少三个碳原子的第一有机胺。本发明还描述了可用于本发明方法的组合物。