[发明专利]具有挡光边缘排除区的透明基板在审
申请号: | 201980085922.8 | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN113261089A | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 迈克尔·于-泰克·扬;卢多维克·戈代;罗伯特·简·维瑟 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本公开内容的多个实施方式一般涉及光学透明基板,该光学透明基板包括主表面,该主表面具有周围边缘区域和形成在该周围边缘区域上的纹理,该周围边缘区域具有形成于该周围边缘区域中的定向特征结构,该纹理的不透明度大于该主表面的不透明度。 | ||
搜索关键词: | 具有 边缘 排除 透明 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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