[发明专利]位置量测设备和关联的光学元件在审
| 申请号： | 201980086222.0 | 申请日： | 2019-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN113227906A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | A·J·A·贝克曼;亚历山德罗·波洛;H·P·M·派勒曼斯;N·库马尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G02B26/00;G02B26/02;G02B5/28;G01J3/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 公开了一种量测设备，包括：光学元件，被配置为在所述量测设备的光瞳平面处或附近接收至少：包括第一较高衍射阶的第一辐射，和第二辐射，其包括用辐射照射量测目标而产生的零阶；并且在第一方向上一起引导所述第一辐射和第二辐射。所述量测设备还被配置为至少形成第一干涉图案的第一图像，所述第一干涉图案是由所述第一辐射和第二辐射在像平面处的干涉产生的。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 设备 关联 光学 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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