[发明专利]用于清洁光刻系统中的支撑结构的设备和方法在审
| 申请号： | 201980086577.X | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN113260923A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | K·M·列维 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B7/00;H01L21/687 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种从EUV或DUV光刻系统中的诸如掩模版或晶片平台之类的光刻支撑件的工作表面移除污染物的设备和方法，其中支撑基底的基部具备一定表面轮廓以便朝向所述基部的中间部分较厚，使得当由所述基部支撑的基底在所述工作表面与所述基部之间被挤压时，所述污染物从所述工作表面传递至所述基底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 光刻 系统 中的 支撑 结构 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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