[发明专利]用于光刻设备的衬底保持器和制造衬底保持器的方法在审
| 申请号： | 201980086700.8 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN113302556A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | A·尼基佩洛维;A·F·J·德格罗特;M·尼克利亚多瓦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种生产用于光刻设备的衬底保持器的方法，该衬底保持器包括具有主体表面的主体，其中该方法包括以下步骤：使主题的至少一部分涂覆第一涂覆材料的层；以及用激光照射处理第一涂覆材料的多个离散区域，以选择性地将上述区域中的上述第一涂覆材料转换为具有不同结构或密度的第二涂覆材料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 衬底 保持 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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