[发明专利]用于在片段边界处产生图案形成装置图案的方法在审
| 申请号： | 201980086926.8 | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN113227899A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 张权;赵勇柱;朱漳楠;黄博扬;陈炳德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F1/70;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本文描述一种方法，所述方法用于产生待用于图案化过程中的掩模图案。所述方法包括：(P301)获得(i)第一特征片段和(ii)第二特征片段，所述第一特征片段包括初始掩模图案的第一多边形部分，所述第二特征片段(P302)包括所述初始掩模图案的第二多边形部分；(P303)调整位于所述第一特征片段与所述第二构件片段之间的片段边界处的所述第二多边形部分，使得所述第一多边形部分与所述第二多边形部分之间在所述片段边界处的差减小；以及(P305)在所述片段边界处组合所述第一多边形部分与调整后的第二多边形部分，以形成所述掩模图案(330)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 片段 边界 产生 图案 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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