[发明专利]使用多束的透镜内晶片预充电和检查在审
| 申请号： | 201980087174.7 | 申请日： | 2019-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN113228219A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 尹炜华;蒋友飞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种带电粒子系统(400)，可以包括设置在第一轴(470)上的第一带电粒子束源，以及设置在第二轴上的第二带电粒子束源(420)。还可以提供一种布置在第一轴上的偏转器(430)。偏转器可以被配置为将从第二带电粒子束源生成的射束朝向样品(403)偏转。一种操作带电粒子束系统的方法，包括：在操作偏转器(430)的第一状态和第二状态之间切换。在第一状态下，可以熄灭从第一带电粒子束源生成的第一带电粒子束，并且朝向样品引导从第二带电粒子束源生成的第二带电粒子束。在第二状态下，可以熄灭第二带电粒子束，并且朝向样品引导第一带电粒子束。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 透镜 晶片 充电 检查 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980087174.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：功率开关的继电器单元
- 下一篇：使用多个电子束进行实时立体成像的系统和方法
