[发明专利]并行纹理采样在审
申请号: | 201980087797.4 | 申请日: | 2019-10-24 |
公开(公告)号: | CN113302658A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 拉里·西勒 | 申请(专利权)人: | 脸谱科技有限责任公司 |
主分类号: | G06T11/40 | 分类号: | G06T11/40;G06T11/00;G06T1/60;G06T15/04 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 周靖;杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在一个实施例中,计算系统可以接收组织成纹理元素阵列的多个纹理元素,该纹理元素阵列包括多个子阵列。该系统可以确定多个纹理元素子集,其中每个子集中的纹理元素在其相应的子阵列中具有相同的位置。系统可以将纹理元素子集分别存储到多个缓冲区块中,每个缓冲区块存储一个纹理元素子集。系统可以从缓冲区块中检索采样纹理元素阵列,用于并行确定多个采样点的像素值。采样纹理元素阵列中的每个纹理元素可以从不同的缓冲区块中检索。 | ||
搜索关键词: | 并行 纹理 采样 | ||
【主权项】:
暂无信息
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