[发明专利]位置和取向跟踪系统在审
| 申请号： | 201980089047.0 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN113366401A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 马克·约瑟夫·皮瓦茨 | 申请（专利权）人： | 快砖知识产权私人有限公司 |
| 主分类号： | G05D1/02 | 分类号： | G05D1/02;B25J9/16 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 姜晓霞;杨明钊 |
| 地址： | 澳大利亚西*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于跟踪对象的位置和取向的跟踪系统，该跟踪系统包括：跟踪基座，其被设置在环境中，该跟踪基座包括：跟踪头支架和至少三个跟踪头，该至少三个跟踪头被安装到跟踪头支架；目标系统，其包括至少三个目标，这些目标被安装到对象，每个目标包括反射器，该反射器将辐射束反射到相应的跟踪头的基座传感器；以及控制系统，该控制系统：在相应的目标在环境中移动时，使每个跟踪头跟踪该相应的目标；确定每个目标相对于相应的跟踪头的位置；至少部分地使用所确定的每个目标的位置来确定目标系统的取向；以及，至少部分地使用目标系统的位置和取向来确定对象的位置和取向。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 取向 跟踪 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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