[发明专利]用于促进波导内的全内反射的气穴结构在审
| 申请号： | 201980090867.1 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113454507A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 邓晓培;V·辛格;杨书强;K·罗;N-W·皮;F·Y·徐 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/122;G02B27/01 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 姜利芳;于静 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 凹槽形成在波导的前侧和后侧。将固体致孔剂材料旋涂到前侧和后侧并填充凹槽。然后在波导的凸起构造和固体致孔剂材料上形成第一前盖层和第一后盖层。然后加热整个结构并且固体致孔剂材料分解成致孔剂气体。第一前盖层和第一后盖层是多孔的，以允许致孔剂气体逸出并且空气进入凹槽中。空气使波导的高折射率透明材料和空气之间的折射率差异最大化，以促进在波导中的从波导和空气之间的界面的反射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 促进 波导 反射 气穴 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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