[发明专利]用于钌化学机械抛光的不含氧化剂的浆料在审
| 申请号： | 201980091149.6 | 申请日： | 2019-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN113383047A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 柯政远;黄宏聪;T.J.卡特 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳;宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光组合物，其包含：(a)维氏硬度为16GPa或更大的研磨剂，及(b)液体载剂，其中该抛光组合物基本上不含氧化剂且其中该抛光组合物具有约0至约7的pH。本发明进一步提供使用抛光组合物对基板尤其是包含钌的基板进行抛光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 氧化剂 浆料 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于CMC材料股份有限公司，未经CMC材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980091149.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：信息处理装置、信息处理方法和信息处理程序
- 下一篇：多层胶带
