[发明专利]使用基准确定对准在审
| 申请号： | 201980093943.4 | 申请日： | 2019-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113543980A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 钱栗;X·多明戈雷关特;S·维森特维森特 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B41J3/60 | 分类号： | B41J3/60;G06K15/02;B41J2/525 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 钟茂建;陈岚 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种打印装置。在一些示例中，打印装置包括：打印头，用于将打印剂沉积到基底上；检测器，用于检测基准；第一光源，用于背照基底，使得来自第一光源的光将被检测器通过基底检测到；以及处理装置。所述处理装置用于：操作打印头以沉积打印剂，以在基底的第一面上形成第一基准，第一基准包括第一颜色并具有第一维度的形状以及第二不同颜色的打印剂的背景，其中形状的第一维度不超过背景的相应维度；操作打印头以沉积打印剂，以在基底的第二相对面上形成第二基准，第二基准包括第一颜色的形状的反转版本；操作第一光源以背照基底；操作检测器以检测第一和第二基准；以及确定第一基准是否与第二基准对准。还公开了一种方法和机器可读介质。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 基准 确定 对准 | ||
【主权项】：
暂无信息
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