[发明专利]垂直电容器结构、电容器组件,以及制造所述垂直电容器结构的方法在审
申请号: | 202010004668.9 | 申请日: | 2020-01-03 |
公开(公告)号: | CN111403602A | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 刘旭唐;张皇贤;蔡宗唐;涂宏荣 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L49/02 | 分类号: | H01L49/02 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 蕭輔寬 |
地址: | 中国台湾高雄市楠梓*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种垂直电容器结构包含衬底、至少一支柱、第一导电层、第一介电层和第二导电层。所述衬底界定腔。所述支柱位于所述腔中。所述第一导电层覆盖所述衬底的所述腔和所述支柱并与之共形,且与所述衬底绝缘。所述第一介电层覆盖所述第一导电层并与之共形。所述第二导电层覆盖所述第一介电层并与之共形。所述第一导电层、所述第一介电层和所述第二导电层共同形成电容器组件。 | ||
搜索关键词: | 垂直 电容器 结构 组件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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