[发明专利]金属氮化物硬掩膜的制备方法有效
申请号: | 202010005973.X | 申请日: | 2020-01-03 |
公开(公告)号: | CN111058090B | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 罗建恒;耿波;杨帆;张超;白志民 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | C30B25/06 | 分类号: | C30B25/06;C30B25/04;C30B25/18;C30B29/38;C30B29/64 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供的应力可调的金属氮化物硬掩膜的制备方法,通过使用合金靶材进行溅射工艺,可以使沉积在晶圆上的所述金属氮化物硬掩膜达到预设厚度,且使得所述金属氮化物硬掩膜的晶体的生长晶向为预设方向。与现有技术使用单一金属材料靶材溅射相比,上述制备方法在金属氮化物硬掩膜中引入了新的金属原子替代部分原有的金属原子,以在沉积金属氮化物硬掩膜时,引发晶格畸变,从而使金属氮化物硬掩膜的晶体在预设方向上生长,提高薄膜性能,尤其适用于14nn以下制程。 | ||
搜索关键词: | 金属 氮化物 硬掩膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
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