[发明专利]稀疏2D点集的深度特征提取方法及装置在审
| 申请号： | 202010006265.8 | 申请日： | 2020-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN111223136A | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 李茁;杨慧光;李宇光;杨柳 | 申请（专利权）人： | 三星（中国）半导体有限公司;三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G06T7/50 | 分类号： | G06T7/50;G06T7/73;G06N3/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 王皎彤;王兆赓 |
| 地址： | 710000 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 提供一种稀疏2D点集的深度特征提取方法及装置。稀疏2D点集的深度特征提取方法包括：根据输入的稀疏2D点集数据，生成所述稀疏2D点集数据的具有空间层次的包括关键点集和局部点集的点集结构数据；分别对关键点集和局部点集进行关系特征编码，得到关键点集的关系特征编码和局部点集的关系特征编码；根据关键点集的关系特征编码和/或局部点集的关系特征编码分别提取所述输入的稀疏2D点集数据的全局特征和/或局部特征，从而实现了稀疏点集深度网络特征的完整准确提取。此外，对稀疏2D点集进行深度特征提取得到的全局特征和/或局部特征可以用于估计预设对象的6自由度位姿，还可以用于对输入的稀疏2D点集数据进行分割。 | ||
| 搜索关键词： | 稀疏 深度 特征 提取 方法 装置 | ||
【主权项】：
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