[发明专利]光照模型计算方法、材质参数的处理方法及其处理装置在审
| 申请号： | 202010009748.3 | 申请日： | 2020-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN111402392A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 谢永明 | 申请（专利权）人： | 香港光云科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/50 | 分类号： | G06T15/50;G06T15/04;G06T15/30;G06T7/521 |
| 代理公司： | 东莞合方知识产权代理有限公司 44561 | 代理人： | 陈正兴 |
| 地址： | 中国香港科学园科技大道*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光照模型计算方法，包括步骤：S1.对ToF模组采集的真实物体的若干个相位图像进行正视图校正和正视图裁剪，获得若干个相同分辨率的正视方向的相位图像；S2.对裁剪后的相位图像进行深度值提取，并逐像素进行空间凹凸信息和法向量计算，将裁剪后的相位图像信息和法向量信息按顺序进行矩阵存储，并转换为同一像素的光照像素集合；S3.对每个像素点进行光照信息的空间拟合，计算每个纹理像素上的凹凸信息、法向量信息、反射率及透明度，以计算物体在虚拟光照环境中的漫反射数据。本发明还提供了一种基于光照模型计算方法的材质参数的处理方法及其材质参数的处理装置。 | ||
| 搜索关键词： | 光照 模型 计算方法 材质 参数 处理 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
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