[发明专利]磁随机存取存储单元及磁随机存取存储器的形成方法在审
申请号: | 202010010415.2 | 申请日: | 2020-01-06 |
公开(公告)号: | CN113078256A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 李晓华;李煜 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/12;G11C11/16 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 徐文欣 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种磁随机存取存储单元及磁随机存取存储器的形成方法,磁随机存取存储单元包括:衬底,所述衬底包括若干有源区和位于有源区之间的隔离区;位于所述有源区上的栅极结构;位于所述有源区上和隔离区上的字线结构,所述字线结构的侧壁与所述栅极结构的侧壁相接触。所述磁随机存取存储单元的性能得到了提升。 | ||
搜索关键词: | 随机存取 存储 单元 随机存取存储器 形成 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010010415.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体器件的形成方法
- 下一篇:半导体结构及其形成方法