[发明专利]一种三级研磨制备纳米硅的方法在审
| 申请号： | 202010012137.4 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111180719A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 胡亮;张少波;张志权;李晓马;俞有康 | 申请（专利权）人： | 马鞍山科达普锐能源科技有限公司;安徽科达铂锐能源科技有限公司;安徽科达新材料有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/38 | 分类号： | H01M4/38;C01B33/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 马鞍山市金桥专利代理有限公司 34111 | 代理人： | 鲁延生 |
| 地址： | 243100 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米材料制备领域，具体公开了一种三级研磨制备纳米硅的方法，包括：1)将高纯硅粉、溶剂和分散剂加入到一级砂磨机的分散罐中，进行预分散；将分散好的混合溶液导入一级砂磨机中进行一级研磨，得到纳米硅粒径D50＜1000nm的硅浆液；2)将一级研磨完成后的浆料导入到二级砂磨机进行二级研磨，得到纳米硅粒径D50＜100nm的硅浆液；3)将二级研磨完成后的浆料导入到三级砂磨机中进行三级研磨，得到纳米硅粒径D50＜50nm的硅浆液，干燥获得纳米硅粉；本发明和现有技术相比，该方法制备工艺简单，成本低廉，大幅提升了湿法研磨效率，降低纳米硅粒径，并保证硅浆液的均匀分散性和稳定性，适合产业化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三级 研磨 制备 纳米 方法 | ||
【主权项】：
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