[发明专利]一种MEMS微带环形器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010012766.7 申请日: 2020-01-07
公开(公告)号: CN111180843B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 陶子文;孙俊峰;钱可强;贾世星;王守旭;郁元卫 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01P1/387 分类号: H01P1/387;H01P11/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 朱小兵
地址: 210016 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种MEMS微带环形器及其制备方法,包括:铁镍合金层;微带层,设置于所述铁镍合金层上;下硅层,设置于所述微带层远离所述铁镍合金层的一面上;铁氧体层,贯穿所述下硅层以及所述微带层,向下延伸至所述铁镍合金层上;传输线层,设置于所述下硅层以及所述铁氧体层远离所述微带层的一面上;上硅层,设置于所述传输线层远离所述铁氧层的一面上;以及磁钢层,设置于所述上硅层远离所述传输线的一面上;其中,所述上硅层为台阶结构。本发明提供的一种MEMS微带环形器,通过将上硅层设置为台阶结构,降低了MEMS微带环形器的介质损耗以及辐射损耗,进而降低了MEMS微带环形器在使用的过程中的损耗。
搜索关键词: 一种 mems 微带 环形 及其 制备 方法
【主权项】:
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