[发明专利]产生可调控X光超瑞利散斑场的二元调制屏设计方法有效
| 申请号： | 202010018071.X | 申请日： | 2020-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN111190327B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 陈倩;喻虹;陆荣华;韩申生 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03B42/02 | 分类号： | G03B42/02 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种产生可调控X光超瑞利散斑场的二元调制屏设计方法，包括：设定散斑场的目标对比度；设调制屏的单元格状态：有孔和无孔，设定初始调制屏和初始散斑场，令优化参量等于初始参量；将优化调制屏划分成包含若干单元格的若干个区域；随机挑选一个区域翻转单元格；判断是否满足翻转条件，若满足，令优化参量等于翻转后参量；剩余区域中随机选出一个区域，重复以上步骤，对所有单元格翻转后，得到最终优化调制屏和散斑场；判断是否满足阈值条件，若是，则输出该调制屏；若不是，改变初始调制屏，按上述操作翻转。本发明的二元调制屏产生对比度可调的超瑞利散斑场，用于X光高阶关联成像，在低信噪比条件下提高重构图像的可见度，降低对光通量的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 调控 瑞利 散斑场 二元 调制 设计 方法 | ||
【主权项】：
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