[发明专利]一种辐射降温涂层制备及其成型方法有效
| 申请号： | 202010018364.8 | 申请日： | 2020-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN111234589B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 祖梅;程海峰;吕呈龙 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | C09D5/33 | 分类号： | C09D5/33;C09D127/16;B05D1/28;B05D3/04;B05D5/00;B05D7/24 |
| 代理公司： | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人： | 钱朝辉 |
| 地址： | 410000 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种辐射降温涂层，所述辐射降温涂层的组成成分包括改性分子筛与成膜剂。本发明还提供一种辐射降温涂层的成型方法，包括以下步骤：(1)将成膜剂溶解，再加入改性分子筛，搅拌得到均匀混合的溶液；(2)将步骤(1)中得到的均匀混合的溶液刮涂成膜，然后干燥固化，即得到辐射降温涂层。本发明首次提出将改性分子筛作为日间被动辐射降温材料，改性分子筛在太阳光谱波段(0.25‑2.5μm)具有高反射率，在热辐射波段(2.5‑25μm)具有高发射率，利用其得到的辐射降温涂层具有良好的降温效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 降温 涂层 制备 及其 成型 方法 | ||
【主权项】：
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