[发明专利]垂直校正矩阵的生成方法、装置及计算机可读存储介质在审
| 申请号： | 202010032549.4 | 申请日： | 2020-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN113112412A | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 王艺伟;刘丽艳;伊红;王炜 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;姜精斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种垂直校正矩阵的生成方法、装置及计算机可读存储介质。本发明实施例提供的垂直校正矩阵的生成方法，包括：将全景图像转换为小行星投影图；在所述小行星投影图上进行线段检测，得到多条线段；利用所述多条线段在所述小行星投影图上生成多个大圆，并得到所述多个大圆间的交点，其中，所述大圆为球面与通过球心的平面的交线；从所述多个大圆间的交点中选择出消失点，根据所述消失点计算得到所述垂直校正矩阵。本发明实施例的垂直校正矩阵的生成方法，具有适用性广和可靠性高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 校正 矩阵 生成 方法 装置 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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