[发明专利]一种模式过滤型的大模场光子晶体光纤在审

专利信息
申请号: 202010034599.6 申请日: 2020-01-14
公开(公告)号: CN111103652A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 杨华军;汪明杰;江萍;曹彪 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种模式过滤型的大模场光子晶体光纤,其特征在于所述光纤截面包含有圆形空气孔包层区域以及椭圆空气孔包层区域,并且利用控制椭圆形状空气孔的离心率来抑制基模损耗,在此基础上通过弯曲诱导高阶模式过滤的方法,实现光子晶体光纤的大模场面积以及有效的单模操作。本发明可以用于高功率光纤激光器,可以在波长λ为1.064μm的条件下实现高阶模式的过滤,同时实现有效模场面积大于1300μm2,基模的限制损耗小于0.003dB/m。所述光子晶体光纤由于采用了非对称的结构,参数调整具有较大的灵活性,并且仅通过一种简单的背景材料(如硅玻璃材料)就能够实现非常大的模场面积以及优秀的单模性能。
搜索关键词: 一种 模式 过滤 大模场 光子 晶体 光纤
【主权项】:
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