[发明专利]一种高精度低应力光学薄膜沉积方法及装置在审
| 申请号： | 202010037702.2 | 申请日： | 2020-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN113186529A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 刘浩;赵祖珍;沈洋;刘伟强 | 申请（专利权）人： | 深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04;C23C14/10;C23C14/34;C23C16/40;C23C16/455 |
| 代理公司： | 深圳国海智峰知识产权代理事务所(普通合伙) 44489 | 代理人： | 王庆海 |
| 地址： | 518057 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学薄膜沉积领域，特别涉及一种高精度低应力光学薄膜沉积方法及装置。本发明在薄膜沉积的过程中交替进行离子束溅射沉积和原子层沉积，利用离子束溅射压应力和原子层沉积张应力相互补偿的特征，以实现低应力薄膜沉积。针对本发明中公开的一种高精度低应力光学薄膜沉积方法提供了一种高精度低应力原子层沉积装置，包括真空腔、基片夹具、挡板、靶材、离子源、气路系统、宽光谱监控系统；基片夹具、挡板、靶材在真空腔内从上至下依次设置，气路系统与挡板连通向真空腔中提供气体，宽光谱监控系统与所述真空腔连接实时监控薄膜沉积的厚度，实现在同一真空腔内既可进行离子束溅射沉积又可进行原子层沉积，无需跨真空腔转移基片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 应力 光学薄膜 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
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