[发明专利]磁记录介质及磁记录再现装置在审
| 申请号： | 202010041725.0 | 申请日： | 2020-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN111627466A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 冈田未央 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/41 | 分类号： | G11B5/41;G11B5/48 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施方式涉及一种磁记录介质及磁记录再现装置。实施方式的磁记录介质包括一对主面和设于所述主面之间的侧面，在所述主面具有进行磁记录的记录区域，至少在所述侧面具有非记录区域，其中，所述磁记录介质在所述非记录区域具有表面自由能比所述记录区域高的污染物捕集部。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 再现 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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