[发明专利]静电吸盘和包括其的静电吸盘装置有效
| 申请号： | 202010041910.X | 申请日： | 2020-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN111446197B | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 李相起;森谷义明 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人： | 侯聪 |
| 地址： | 韩国忠清南道天*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种静电吸盘，其通过静电力固定工作衬底。所述静电吸盘包括：介电板，其被构造为支撑所述工作衬底；底板，其被构造为支撑所述介电板；以及吸附电极，其插在所述介电板和所述底板之间，并且被构造为产生用于吸附所述工作衬底的静电力。所述介电板是蓝宝石板，所述底板由氧化铝陶瓷材料组成，所述吸附电极在‑200℃至400℃范围内具有20％或更小的电阻变化率，并且所述介电板和所述底板是通过所述吸附电极一体粘合的。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 包括 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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