[发明专利]掩膜版及其制备方法有效
| 申请号： | 202010045359.6 | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN111118448B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 徐国华;王建强;吴蕴泽 | 申请（专利权）人： | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 方晓燕 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种掩膜版及其制备方法。掩膜版包括框架、掩膜本体和调节装置。掩膜本体设置于框架。调节装置设置于框架与掩膜本体之间，用于调节框架与掩膜本体之间的位置变化。当掩膜版完成掩膜本体的张网之后，一旦发现掩膜本体出现移位或者褶皱的情况，可以通过调节装置调整掩膜本体与框架之间的位置发生变化，使得掩膜开口能够与像素单元对位设置，避免掩膜版的重新张网。通过调节装置调整掩膜本体与框架之间的位置发生变化，使得掩膜开口能够与像素单元对位设置，也可以提高显示屏的显示良率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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