[发明专利]晶片的干燥装置、干燥方法、清洗系统及清洗干燥装置有效
| 申请号： | 202010046129.1 | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN111219953B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 覃玉婷;徐伟;周文斌 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | F26B5/02 | 分类号： | F26B5/02;F26B11/18;H01L21/67;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 杨思雨 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种晶片的干燥装置、干燥方法、清洗系统及清洗干燥装置。该干燥装置包括：腔室；转盘，位于所述腔室内，所述转盘的侧壁适于固定晶片；以及换能器，连接至所述转盘，适于根据超声频电源提供超声波，并将所述超声波辐射至所述晶片，以使所述晶片孔内的水分子振动，其中，所述晶片具有开孔的表面被配置为背对所述转盘的轴线。该干燥装置利用换能器生成超声波，以撕裂水分子，并利用转动转盘使晶片开孔底部的水分子向开孔外部做离心运动，提高了对晶片干燥的效率和可靠性，从而提高了最终形成的器件的良率和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 干燥 装置 方法 清洗 系统 | ||
【主权项】：
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