[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010051946.6 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111463097A | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 田中诚治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供等离子体处理装置。处理室在内部设置有用于载置基片的载置台，在其中实施对基片的等离子体处理。排气口设置在载置台的周围的、比载置台的载置基片的载置面低的位置，对处理室内进行排气。多个挡板由导电性材料形成，分别与接地电位连接，设置在排气向排气口的流动通路上比排气口靠上游侧处，从载置台的侧面侧和处理室的侧面侧交替地伸出，该伸出的前端部分隔开间隔地重叠。本发明能够抑制不稳定的放电。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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