[发明专利]光栅波导微流体芯片的制造方法有效
| 申请号： | 202010053711.0 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111229339B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 陈昌;刘博;豆传国 | 申请（专利权）人： | 上海新微技术研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00;G01N21/63 |
| 代理公司： | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人： | 黄少波 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光栅波导微流体芯片的制造方法，包括提供衬底，在衬底上形成牺牲层，形成下包层；形成波导层；形成光栅波导，包括出射光栅；在波导层上形成保护层，用于覆盖光栅波导并保护出射光栅；在保护层上形成上包层；形成微流道，贯穿上包层以暴露出保护层；出射光栅位于微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入微流道内；去除牺牲层。具有有益效果：在柔性基底上沉积光学性能可调的氮化硅薄膜，扩展SiN光学器件材料的应用范围和形式，将传统光学系统通过集成光学或片上光学器件来实现，把传统的台式大型的光学系统缩小到芯片尺寸，保证出色的分析性能，实现微纳尺度下的生物样品的高通量芯片级光学检测和分析集成系统，大幅度降低系统成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 波导 流体 芯片 制造 方法 | ||
【主权项】：
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