[发明专利]基于偏振自相关的暗场共焦显微测量装置和方法有效
| 申请号： | 202010056471.X | 申请日： | 2020-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN111257226B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 刘辰光;刘俭;陈刚 | 申请（专利权）人： | 南京恒锐精密仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01B11/24;G01N21/88;G02B21/00;G02B21/08 |
| 代理公司： | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人： | 符继超 |
| 地址： | 210000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于偏振自相关的暗场共焦显微测量装置和方法，装置包括偏振环形光照明模块、偏振环形光扫描模块和共焦检偏探测模块；通过照明光束整形与互补孔径遮挡探测，有效分离样品表面反射信号与亚表面散射信号，可同时获取纳米级表面划痕、磨损及亚表面裂痕、气泡等缺陷的三维分布信息，实现兼具表面及亚表面缺陷一体化检测功能；同时利用样品结构不对称性对不同方向单波矢照明光场激励产生极性散射和相邻观测点自相关累积量差异，实现超分辨测量。该发明具有可实现纳米级亚表面三维缺陷检测的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 偏振 相关 暗场 显微 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
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