[发明专利]一种用于动平台的强光干扰下高精度位姿测量方法有效
申请号: | 202010057331.4 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN111207735B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 麻彦轩;甘志超 | 申请(专利权)人: | 中国航空工业集团公司北京长城航空测控技术研究所;中航高科智能测控有限公司;北京瑞赛长城航空测控技术有限公司 |
主分类号: | G01C21/00 | 分类号: | G01C21/00;G01C1/00 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 陈宏林 |
地址: | 100022 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明是一种用于动平台的强光干扰下高精度位姿测量方法,该方法由两个长焦图像采集相机聚焦动平台小区域信标,两个短焦图像采集相机聚焦动平台位姿解算信标,对小区域信标采用轮循点亮结合卡尔曼滤波的方法识别匹配,计算小区域信标中每个发光体的三维坐标;再依据距离约束关系,粗计算动平台位姿解算信标中每个发光体的像面搜索区域,去除大面积强光干扰,然后在每个搜索区域内进行图像增强,去除局部的强光干扰,最后采用距离最近原则在每个搜索区域内进行识别搜索匹配,计算动平台位姿解算信标中每个发光体的三维位置及动平台的姿态角。本发明方法具有较好的抗强光干扰性,高精度测量性,且实时性好。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 平台 强光 干扰 高精度 测量方法 | ||
【主权项】:
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