[发明专利]磁存储器在审
申请号: | 202010057668.5 | 申请日: | 2020-01-19 |
公开(公告)号: | CN111244266A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 赵巍胜;熊丹荣;彭守仲 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H01L43/06 | 分类号: | H01L43/06;H01L43/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;孙乳笋 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种磁存储器,包括:第一反铁磁层,用于提供交换偏置场;插入层,设置在反铁磁层上,用于阻挡退火过程中第一反铁磁层的材料的扩散;自由铁磁层结构,设置在插入层上;第一势垒层,设置在自由铁磁层结构上;参考铁磁层结构,设置在第一势垒层上,具有固定的磁化方向;其中,自由铁磁层结构的磁化方向与参考铁磁层结构的磁化方向平行或反平行。本发明具有退火温度高的特点,可以兼容CMOS后期热处理工艺。 | ||
搜索关键词: | 磁存储器 | ||
【主权项】:
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