[发明专利]基于MXene二维材料电磁屏蔽涂层的制备及应用在审

专利信息
申请号: 202010061503.5 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN111171703A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 马贵平;张超;赵悌军;陈斌凌;陈永惠;聂俊 申请(专利权)人: 北京化工大学常州先进材料研究院
主分类号: C09D175/14 分类号: C09D175/14;C09D7/61;D21H19/24;D21H19/16;D21H21/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213164 江苏省常州市武进区常武*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及电磁屏蔽材料技术领域,尤其涉及基于MXene二维材料电磁屏蔽涂层的制备及应用。为了进一步提高电磁屏蔽涂料的电磁屏蔽效果,本发明提供一种基于MXene二维材料的光固化涂层,由树脂基聚合单体、光引发剂、流平剂、分散剂、电磁屏蔽材料组成,本发明所制备的基于MXene二维材料的光固化涂层具有良好的电磁屏蔽效果,电磁屏蔽性能可达到2000~25000dBcm2g‑1;本发明所制备的基于MXene二维材料的光固化涂层具有较好的力学性能,其硬度可达到6H;本发明通过调节脂肪族聚氨酯类齐聚物与丙烯酸酯单体的比例和含量来调节光固化涂层的力学性能和电磁屏蔽效果,工艺简单,具有良好的应用前景。
搜索关键词: 基于 mxene 二维 材料 电磁 屏蔽 涂层 制备 应用
【主权项】:
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