[发明专利]一种具有高深宽比的母版的制作方法、母版及其应用在审

专利信息
申请号: 202010066772.0 申请日: 2020-01-20
公开(公告)号: CN113138530A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 基亮亮;周小红;刘麟跃 申请(专利权)人: 苏州维业达触控科技有限公司;维业达科技(江苏)有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 周志中
地址: 215026 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种具有高深宽比的母版的制作方法,包括:提供一衬底;在衬底上制备一传递层;在传递层制备一具有第一图形凹槽的结构层;对第一图形凹槽进行刻蚀,直至达到所需深度的第三图形凹槽,得到母版,其中,第三图形凹槽包括设置于传递层的第一图形凹槽,及设置于传递层和结构层的第二图形凹槽。本发明还公开一种具有高深宽比的模具的制作方法,对上述母版进行翻版,得到具有高深宽比的模具。本发明还公开了一种具有高深宽比的母版,采用上述具有高深宽比的母版的制作方法制作。本发明还公开一种具有高深宽比的模具,采用上述具有高深宽比的模具的制作方法制作。通过上述方法,便于制作高深宽比的第三图形凹槽,同时对各层的可控性强。
搜索关键词: 一种 具有 高深 母版 制作方法 及其 应用
【主权项】:
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