[发明专利]用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法在审
申请号: | 202010068083.3 | 申请日: | 2020-01-21 |
公开(公告)号: | CN111258172A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 郝芸芸;韦亚一;董立松;陈睿 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/70 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 付婧 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开一种用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法,该新型掩模版中,透光区域中包括衍射过渡区域,衍射过渡区域与遮光区域连接,衍射过渡区域中包括一组或多组间隔排列的过渡图形;过渡图形与透光区域和遮光区域相接的临界线平行;衍射过渡区域中被过渡图形覆盖的区域不透光。本申请在掩模版边缘的衍射过渡区域中设置不透光的过渡图形,过渡图形能增加掩模版的衍射区域宽度,调节多曝光区域的曝光量,使掩模版边缘的曝光剂量均匀分布,达到良好的曝光效果。通过增加过渡图形和边缘距离调整,达到较好的曝光剂量分布,同时还可以达到削弱设备步进精度3σ值对拼接影响的效果,提升了面板的显示效果。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 显示 面板 新型 模版 及其 参数 确定 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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