[发明专利]用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法在审

专利信息
申请号: 202010068083.3 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN111258172A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 郝芸芸;韦亚一;董立松;陈睿 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/70
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开一种用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法,该新型掩模版中,透光区域中包括衍射过渡区域,衍射过渡区域与遮光区域连接,衍射过渡区域中包括一组或多组间隔排列的过渡图形;过渡图形与透光区域和遮光区域相接的临界线平行;衍射过渡区域中被过渡图形覆盖的区域不透光。本申请在掩模版边缘的衍射过渡区域中设置不透光的过渡图形,过渡图形能增加掩模版的衍射区域宽度,调节多曝光区域的曝光量,使掩模版边缘的曝光剂量均匀分布,达到良好的曝光效果。通过增加过渡图形和边缘距离调整,达到较好的曝光剂量分布,同时还可以达到削弱设备步进精度3σ值对拼接影响的效果,提升了面板的显示效果。
搜索关键词: 用于 制造 显示 面板 新型 模版 及其 参数 确定 方法
【主权项】:
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