[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202010069989.7 | 申请日: | 2020-01-21 |
公开(公告)号: | CN112420818A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 西胁达也;加藤浩朗;小林研也;可知刚 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L29/40 | 分类号: | H01L29/40;H01L29/78;H01L27/088 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 牛玉婷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供能够提高雪崩耐量的半导体装置。该半导体装置具有第一电极、第一导电型的第一半导体区域、第二导电型的第二半导体区域、第一导电型的第三半导体区域、导电性的含金属部、绝缘部、栅极电极、第二电极、第一布线层、以及第二布线层。第一半导体区域设于第一电极之上。第二半导体区域设于第一半导体区域之上。第三半导体区域及含金属部设于第二半导体区域之上。绝缘部在第二方向上与第一半导体区域的一部分、第二半导体区域以及第三半导体区域并排。栅极电极以及第二电极设于绝缘部中。第一布线层隔着第一绝缘层设于含金属部的一部分及栅极电极之上,与栅极电极电连接。第二布线层与第一布线层分离地设置,与含金属部以及第二电极电连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010069989.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类