[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010069989.7 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN112420818A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 西胁达也;加藤浩朗;小林研也;可知刚 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L29/40 分类号: H01L29/40;H01L29/78;H01L27/088
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供能够提高雪崩耐量的半导体装置。该半导体装置具有第一电极、第一导电型的第一半导体区域、第二导电型的第二半导体区域、第一导电型的第三半导体区域、导电性的含金属部、绝缘部、栅极电极、第二电极、第一布线层、以及第二布线层。第一半导体区域设于第一电极之上。第二半导体区域设于第一半导体区域之上。第三半导体区域及含金属部设于第二半导体区域之上。绝缘部在第二方向上与第一半导体区域的一部分、第二半导体区域以及第三半导体区域并排。栅极电极以及第二电极设于绝缘部中。第一布线层隔着第一绝缘层设于含金属部的一部分及栅极电极之上,与栅极电极电连接。第二布线层与第一布线层分离地设置,与含金属部以及第二电极电连接。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010069989.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top