[发明专利]一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法在审
| 申请号： | 202010070989.9 | 申请日： | 2020-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN111204742A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 杨鹏;赵健;李倩;苗变梁;皮和木 | 申请（专利权）人： | 陕西师范大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 西安永生专利代理有限责任公司 61201 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，将氧化石墨烯水溶液与三(2‑羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合，混合溶液在一定温度下进行还原反应，得到还原氧化石墨烯。本发明制备方法所用的还原剂三(2‑羧乙基)膦盐酸盐无味、无毒，氧化产物可经过水洗去除，还原效率高，整个还原反应在水相环境中进行，不使用任何有机溶剂，是一种高效、经济、环保的制备方法，且所制备的还原氧化石墨烯不会被引入杂原子，具有高的碳/氧原子比，导电率最高可达2800S/m。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧原子 杂质 还原 氧化 石墨 制备 方法 | ||
【主权项】：
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